第76章 傑出的後起之秀(求追讀)_火紅年代,開局大學演講_思兔閱讀 
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第76章 傑出的後起之秀(求追讀)(1 / 2)

binf/b/div阿斯克“不好意思李,剛剛手機不小心掉到水裡了。”

“你要集成電路相關工藝技術的資料嗎,你等等,我馬上發給你。”

沒多久,李暮收到資料。

他先是飛速瀏覽了一邊資料,然後用問題拖延時間“各位專家教授,大家覺得,我們國內現在集成電路研究困難有哪些?”

“當然是技術問題,很多技術我們都沒有嘛。”有專家笑道。

一個教授立刻接話“不僅是沒有,用什麼技術也不清楚,隻能慢慢摸索。”

兩人的話讓周圍的人頻頻點頭。

李暮這會兒看了一些資料,心底稍稍有點底,飛快組織語言道“集成電路,就是把電路所需要的晶體管、二極管、電阻器和電容器等原件以一定工藝方式製作在一小塊矽片上,

再用適當的工藝進行互連,然後封裝在管殼內……最終製成集成電路。”

“那麼我們從中是不是能夠從中得到集成電路所需的工藝信息呢?”

“當然可以,而且不需要推論。”下麵立刻有人回答,“按照國外的期刊和雜誌提供的資料,它會經過氧化、光刻、擴散、外延、等工藝流程。”

李暮點點頭,目光瞥到旁邊有塊小黑板,於是緩步走過去,拖延時間以便能瀏覽到更多的內容。

等到在小黑板前麵站定,他先把上麵寫的東西擦了,然後拿起粉筆,寫下一段文字光刻工藝、薄膜沉積工藝、刻蝕工藝、離子注入工藝。

“嗯?”台下有人皺起了眉。

光刻和刻蝕他們倒是知道,但薄膜沉積和離子注入,就比較陌生了。

李暮聞言轉過身,道“這是我根據國外資料,做出的對集成電路工藝難題的推論。”

“哦,推論的依據是什麼?你不妨舉個例子。”有專家立刻犀利發問。

毫無根據的結果,無法讓他們信服。

李暮微微沉吟,然後道“這四項工藝是我對集成電路成果的逆推,比如薄膜沉積工藝,就是通過晶圓的表麵具有各層電路結構倒推而出。”

聽完李暮的回答,下麵的專家教授們一琢磨,發現好像還真有幾分道理,於是又問道“那麼刻蝕呢?又因為什麼?”

“在集成電路的形成過程中,需要光刻膠來複製掩膜圖形,而刻蝕就是如何正確地選擇清除不需要材料的工藝。”李暮笑道。

說完,他似是知道這些專家和教授們會繼續發問,搶先一步開口道“離子注入主要的作用是形成電阻,在芯片上起到導線和加熱器的作用。”

“這種技術,是我通過在傳統擴散技術的基礎進一步發散後想到的,沒有經過實驗檢驗,不一定準確。”

“這裡大膽提出,隻是想趁著這個機會給各位專家教授提供一個思路。”

在場的專家和教授們心底不由冒出的一個念頭“是夠大膽!”

但緊接著,他們又猛地發現“不對勁啊,怎麼說得好像很道理!”

而且李暮的理論,幾乎等於給他們搭建了一個相當明晰的集成電路工藝流程框架!

要知道像集成電路這種高精尖的前沿技術,國外都是嚴防死守,生怕被國內學去。

他們想要研究,隻能從國外的期刊雜誌上找到一些隻鱗片甲的內容,再以此做基礎展開實驗。

整個過程,就是一步步試錯,摸著石頭過河。

“你再給我們說說這個離子注入工藝,你是怎麼想的?”幾個教授目光灼灼地看向李暮。

李暮這會兒已經快把資料看完了,聞言迅速定位要說的內容,整理一番後道“離子束把固體材料的原子或分子撞出固體材料,叫做濺射;從固體材料表



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