我有科研輔助係統！
第二周。
在上周，許秋初步探索了溶液濃度、旋塗手段對器件光電性能的影響。
這周他打算同時研究給體受體質量比、溶劑添加劑以及退火對電池效率的影響。
因為是在模擬實驗室，原料不要錢，所以許秋在設計實驗的時候也沒有太多顧慮。
首先是給體受體質量比例。
根據文獻，大多數研究者給出的比例介於1:1到1:15之間，不過少數也有到1:2的。
許秋決定先跟著大多數人走，於是配置了3組溶液，保持溶質總濃度在20毫克每毫升，給體受體質量比例分彆為1:1、1:13和1:15的溶液，各15毫升。
因為其中的1:13比例，給、受體用量不是整數，所以他提前計算好物料質量，用標簽紙貼在手套箱玻璃上。
其次是溶劑添加劑。
最常用的添加劑是1，8二碘辛烷，簡稱dio，是一種高沸點溶劑，可以延長溶液的成膜時間，改善共混薄膜的形貌。
此外，也有部分研究者使用其他溶劑添加劑，比如氯萘等。
許秋最終選擇dio，他設置了3種條件，分彆為不添加、按體積分數添加1和2。
他在手套箱中找到dio的試劑瓶，發現其內部有銅粉作為穩定劑，沉積在液體下方。
於是，他先用一次性滴管避開試劑瓶底部，小心吸取大約100毫升的液體，轉移至2毫升離心管中待用。
等到剛才的3組溶液完全溶解後，許秋再將每組溶液等分為3瓶，每瓶05毫升，然後用移液槍依次加入0、5、10微升的dio。
三組溶液就這樣變成了九組溶液。
接著是退火條件。
根據文獻報道，tb7th體係一般不進行溶劑退火，部分研究者會選擇熱退火操作。
所以許秋設計了兩種條件不退火、120攝氏度熱退火15分鐘。
最後是轉速。
上次實驗中的最佳轉速為3000r，次一級的是2500r，許秋決定繼續沿用這兩種轉速。
他計算了一下，一共332236組條件。
要不是怕器件數量膨脹到上百，許秋還想做更精細的調控。
不過就算這樣，36組，還是蠻多的。
他搖搖頭，不再多想，開始實驗。
旋塗，完成。
蒸鍍機器每次最多隻能蒸鍍25片基片，所以要分兩次進行，完成。
測試，完成。
最高效率是988。
對應的樣品是“13，1，o，2500”，即tb7th:c[70]b的質量比例為1:13，溶劑添加劑dio體積比為1，2500r轉速，不退火的條件下。
其他器件的效率則在59之間波動。
許秋將實驗結果列表記錄到實驗記錄本上，然後進行總結
第一，最佳質量比例為1:13，且比例變化對光電性能影響不大。此項暫時不用更改。
第二，進行退火操作，器件效率會提高或降低，不過效率波動幅度較小，隻有不到1，這說明退火與否對器件光電性能的影響不大。此項暫時不用更改。
第三，溶劑添加劑對器件性能的影響較大，1的添加量為最佳，如果增加至2，效率會大幅降低。因此，需要對添加劑的添加量進行更細微的調控。
第四，添加dio的樣品，最佳轉速從3000變更為2500r。因此，需要進一步調節添加了dio樣品的轉速。