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第九三八章 提案(2 / 2)

六一年,成立三年的ca(美國地球物理公司)造出了世界第一台接觸式光刻機。

七十年代,尼康公司和佳能公司開始進入這個領域,作為光學行業的頂級巨鱷,相機裡的一塊os感光元件,技術難度都比當時的光刻機不知道高多少倍?如魚得水!

七十年代,kaspr儀器公司首先推出了接觸式對齊機台並領先了幾年,blt公司做出了自動生產線,但接觸式機台後來被接近式機台所淘汰。

七三年,拿到美**方投資的p&公司推出了投影式光刻係統,搭配正性光刻膠非常好用而且良率頗高,因此迅速占領了市場。

七八年,ca推出了世界上第一台商用步進光刻機dsw4800,該機器使用線汞燈和蔡司光學元件,以10:1的比例將芯片線路成像到十毫米見方區域。

八零年,尼康公司率先推出日本首台krf商用步進光刻機nsr-1010,能夠以五倍的分辨率的減少實現1μ製程工藝,生產比ca更高分辨率的鏡頭吸引客戶。

和hp等美國半導體公司,在公司利益麵前果斷放棄美國利益,紛紛掉頭投入尼康公司的懷抱。

在尼康公司的打壓下,ca的高端市場份額不斷減少,在八五年、八六年損失一億美元,不得不裁員七成;八八年,美國通用信號公司以七千六百萬美元收購了陷入財務困境的ca,為了與尼康競爭,satch(美國半導體製造技術戰略聯盟)資助ca開發成功krf光刻機,實現了1μ製程工藝,但尼康光刻機的製程工藝提升到的高端市場份額沒有多大起色。

六六年,中k院109所與滬海光學儀器廠聯手協作成功研製中國第一台光刻機、65型接觸式光刻機。

八一年,中k院半導體研究所研製成功jk-1半自動接近式光刻機。

八二年,109廠、冰城量具刃具廠和阿城繼電器廠共同研製成功kha75-1型半自動接近式光刻機,在指標上已經完全對標日本的p500-f型。

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