日本和德國公司在光刻機光學係統、光刻膠和掩膜版技術上領先世界。
ca的最大缺點就是因為蔡司公司提供的光學係統跟不上光刻機行業的飛速發展，導致ca每次光學係統更新都比尼康公司慢半拍，製程工藝比尼康慢一代，在高端光刻機市場上被步步領先的尼康公司打敗。
工作台就是一個大托盤，下麵是線性馬達來控製平台移動。
正常途徑就是光源通過反光鏡鏡頭組，集光再反投到掩膜板上。
掩膜板就是電路圖反刻，從實驗室裡刻出來的，光透過掩膜板透明的部分投放到矽片上，曝光幾十毫秒後，通過化學反應弄出矽片上的電路圖。
掩膜板主要是玻璃片，上麵刻有預想的電路，然後放在機器上曝光，刻到矽片上看效果。
光刻機光源從六十年代初到八十年代中期，汞燈已用於光刻，其波長分彆為436n（線）、405n（h線）和365n（線）。
隨著半導體行業對更高分辨率（集成度更高和速度更快的芯片）和更高產量（更低成本）的需求，基於汞燈光源的光刻工具已不再能夠滿足半導體業界的高端要求，）和）準分子激光器應運而生，對鏡頭、掩膜版和光刻膠的要求更高。
隨著芯片製程工藝的提升，光刻機成為半導體行業發展的關鍵設備。
雖然受到《日美半導體協議》的影響，日本半導體如今失去了美國市場，但代表世界光刻機最高水平的尼康光刻機還在不斷進步，等半導體設備公司派業務代表，長期住在尼康半導體設備公司，翹首以盼最先進的光刻機出廠。
如今，尼康光刻機占據光刻機市場的40，壟斷了高端光刻機市場，佳能光刻機占和ltratal、p＆、aton和日立等光刻機公司，每家占據的市場份額都不到5。
日本光刻機設備公司在光刻機市場獨占鼇頭！
美國光刻機公司每況愈下。
重生者知道，前世光刻機高端市場被後起之秀asl壟斷！
贏者通吃！
由於asl效益不佳，年年虧損，去年九月，飛利浦半導體公司將其持有的股份，以2000萬美元的價格轉讓給曙光投資公司，讓曙光投資公司控股。
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