前世雖然ko憑借技術實力和資金實力先後研製成功f2準分子激光器和浸沒式光刻技術，生產成功浸沒式光刻機，但半導體產業更新換代迅速，導致ko光刻機的可靠性能始終落後於l，從此，全球高端光刻機龍頭ko逐漸敗給了全球光刻機新霸主l。
前世由於l獨有的v光源無人能夠研製，國內光刻機光源生產公司的技術沒有競爭力，以美國為首的西方國家並沒有限製rf準分子激光器和rf準分子激光器的出口。
bc可以直接進口市場價45五萬美元一台的準分子激光器，購買蔡司公司生產的光學係統，進口6英寸晶圓，加上獨創的光刻機磁懸浮式雙工作台係統，就能生產1製程工藝的光刻機，雖然6英寸晶圓、1製程工藝的半導體生產線是西方國家淘汰的生產線，但在國內還大有市場。
bc就可以活下來！
理想很美好，但現實很骨感，bc就是能製造1製程工藝的光刻機，不代表能生產6英寸晶圓、1製程工藝的半導體生產線！
國內缺乏半導體生產線設備的全產業鏈，如今都壓在了bc的肩上。
bc生產的1製程工藝的光刻機也沒有晶圓公司會用！
誰投資誰倒黴，這就是“造不如買、買不如租”的主要原因！
好在193波長的世界性光學難題將困惑光刻機行業八年，給了bc成長的機會，不然重生者也無能為力。
bc的突破點就是趕在l之前率先研製成功世界上第一台193波長的浸沒式光刻機！
孫健所有的運作就是圍繞這個突破點！
v光刻機太過複雜，即使投入巨資研發成功v光源，但對相關的光學係統、光刻膠、掩膜版等設備和材料的要求太過苛刻，需要十萬個零件，據說前世有五千多家生產商為v光刻機供貨，重生者還不敢付諸實踐。
“孫董事長，bc能否不轉讓磁懸浮式雙工作台係統專利給ko？”
擁有了bc的磁懸浮式雙工作台係統專利的終身授權，c光刻機光學精密設備研究所升級改造，隻要研製成功適應800製程工藝的磁懸浮式雙工作台係統（不能出售和轉讓專利技術），c光刻機的製程工藝就有可能達到500，達到ko光刻機的製程工藝，購買休斯電子材料公司（c）生產的8英寸晶圓，還能提高35左右的產能。
有了磁懸浮式雙工作台係統和蔡司公司的光學係統，ko重新爭奪高端光刻機市場份額的資本。
但前提是b。
“艾德裡安總經理，bc開發的光刻機磁懸浮式雙工作台係統拿到日本和歐美國家簽發的公司發明專利，要等18個月左右。”
“孫董事長，我放心了！”
艾德裡安頓時輕鬆了一大截，孫董事長還是挺幽默的。
“湯普森院長，公司如今經費緊張，光源研究所是繼續研製rf準分子激光器？還是像ko開始研製f2準分子激光器？”
“孫董事長，我認為光源研究所應該另辟蹊徑，開始研製波長隻有十幾個納米的極紫外光？”
c在八五年就研製成功rf準分子激光器，在光刻機光源領域全球領先，但在透鏡和反射鏡構成的光學係統方麵遜於ko半導體設備公司不斷提升的光學係統，加上光刻機光源被卡在193波長上多年，又遭遇全球芯片生產的衰退期，光刻機的霸主地位逐漸被光學係統不斷提升的ko半導體設備公司搶走，年年虧損，公司裁人，技術人員流失，淪落到兩次被賤賣的地步。