煥然一新的新廠區內，一棟十一層、二萬平米的光刻機半導體研究院大樓、一棟五層樓的綜合樓、一棟六層樓的單身宿舍和一棟六層樓的倉庫已經投入使用，600多名員工和廠家的安裝工人（調試工程師）正在光刻機公司、光學精密儀器公司、光刻膠公司、矽片公司、刻蝕機公司、離子注入機公司、掩膜版公司、芯片封裝公司和芯片檢測公司內，緊張有序的進行機器設備的安裝和調試。
光刻機公司包括光刻機光源廠、光刻機雙工作台廠和光刻機組裝廠。
八棟小高層已經住進了員工及家屬，四棟已完成裝修，四棟正在裝修，四棟還沒有封頂。
“孫總，四十五所、建華機械廠、滬海光學精密機械研究所、滬海光學儀器廠的386名技術人員和一線員工已經住進新宿舍，還有143名二線員工將於九月十五日前搬遷完畢，十月十五日前，219名微電子中心和109廠的技術人員和普通員工將全部完成搬遷。”
魏建國、李昌傑和錢國培彙報搬遷工作。
上周四，魏建國、鄧國輝代表bc同艾德裡安、湯普森代表的c進行了談判，大家同一個大老板，如同一家人，氣氛融洽，最後bc以磁懸浮式光刻機雙工作台係統專利交換了c擁有的rf準分子激光器專利和800製程工藝專利的終身使用權和開發權，魏建國和艾德裡安分彆代表雙方公司簽訂了專利技術轉讓協定，鄧國輝、湯普森和雙方律師也簽上自己的名字，蓋上公章。
轉讓協定還規定，在對方專利技術基礎上開發的產品隻能在自己生產的光刻機上使用，不能單獨賣給第三方，利用對方的專利技術開發新的專利技術，不能申請公司發明專利，專利方有權申請新的公司發明專利，使用和轉讓。
bc轉讓磁懸浮式光刻機雙工作台係統的專利技術（還沒有取得公司發明專利證書）給c，獲得了專利局審核委員會的批準。
特事特辦！
c相當於在4英寸晶圓、15製程工藝的磁懸浮式雙工作台係統上升級到8英寸晶圓、500製程工藝的磁懸浮式雙工作台係統，雖然對掌握了6英寸晶圓、800製程工藝的c來說不難，但也要投入資金、人員和時間。
c在磁懸浮式雙工作台係統專利技術上研發成功的所有雙工作台係統技術都屬於bc。
bc光源研究所從立項和研發成功具有自主知識產權的rf準分子激光器，鄧國輝需要2000萬元的研發資金，計劃三年內完成。
半導體產業發展日新月異，三年後，要不是被193波長的世界性光學難題卡住了，尼康光刻機的製程工藝早就超過了65！
如同神助！
不然bc將越掉越遠！
800製程工藝專利技術對於c如同雞肋，但對於bc來說如同神助，一下子跨過1製程工藝，掌握了800製程工藝，但b製程工藝專利技術的基礎上，研發成功、90等製程工藝專利技術都屬於c。
互利共贏！
的專利技術轉讓也是一柄雙刃劍！
台麵上，c似乎吃了虧，但重生者不這樣認為。
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