“劉悅，鄧建國打電話報喜，光學研究所研製成功1um製程工藝的光學係統，我明天上午坐飛機趕往京城祝賀，過幾天就回來。”
九日下午，孫健帶著家人正在遊覽毗鄰老城皇廟的豫園，突然接到鄧建國的報喜電話，非常高興，bec離研製成功6英寸晶圓和1um製程工藝的光刻機又近了一步。
去年八月，bec拿到了gca擁有的arf準分子激光器和800nm製程工藝的專利技術，院長兼光刻機光源研究所所長鄧國輝的團隊，一共76人，聚集了國內光刻機光源係統最強隊伍，光刻機光源研究所的實驗設備和材料也是世界最新的，通過拆卸gca牌arf準分子激光器，同專利技術和製造圖紙相互印證，經過三個月的研究和實踐，團隊消化吸收了arf準分子激光器的專利技術，今年六月，光刻機光源公司造出了國內第一台arf準分子激光器，本土化率近七成，達到了gca牌arf準分子激光器的產品質量標準。
arf準分子激光器的製造成功，對bec也是一次技術實力和製造能力的檢閱。
如今，鄧國輝院長和錢富強助理帶領光刻機光源研究所，正在研發arfi準分子激光器，重生者寄希望五年左右實行彎道超車。
bec還沒有研發成功6英寸晶圓和1um製程工藝的光刻機，而nikon和gca已經先後研發成功8英寸晶圓和30nm製程工藝的光刻機，正在研發8英寸晶圓和0nm製程工藝，對方淘汰的專利技術還是bec正在研發的，技術實力相差太大，鄧院士等人生出一股無力感。
不是重生者指引方向，bec研製成功全球唯一的磁懸浮式雙工作台係統，在全球光刻機行業說話的資格都沒有。
bec如今使用的arf準分子激光器專利技術屬於gca，按照雙方簽訂的專利技術轉讓協定，即使bec研製成功arfi準分子激光器，專利技術也屬於gca，但浸沒式光刻係統專利技術屬於bec。
就像gca研製成功多項磁懸浮式雙工作台係統專利技術也屬於bec。
一旦bec研製成功arfi準分子激光器，即使瓦納協定出台，美國就不能在arfi準分子激光器上卡bec的脖子，除非gca也不用磁懸浮式雙工作台係統專利技術和浸沒式光刻係統專利技術。
雖然tic持有zei&nbp;mt&nbp;ag四成的股權，bec如今也能買到zei&nbp;mt&nbp;ag生產的1um、800nm、00nm，甚至30nm製程工藝的光刻機光學係統，但隨著瓦納協定出台，zei&nbp;mt&nbp;ag到時也不敢供應bec最先進的光刻機光學係統，未雨綢繆，重生者希望bec光刻機光學係統研究所在副院長兼所長陳偉長的率領下，儘早的攻克1um製程工藝的光刻機光學係統，到時，bec就有了立身之本。
國內將是全球最大的電器、電腦和通訊等產品的製造中心和最大的市場，6英寸晶圓和1um製程工藝的光刻機在國內還有很大的市場。
在光刻機三大核心技術中，bec的光刻機光學係統相對最弱，陳偉長在全球範圍內高薪招聘光刻機光學係統方麵的高端人才。
自從gca重新登頂光刻機世界之巔，全球多家半導體設備和晶圓公司預定了台gca300b，產品供不應求，投資者也蜂擁而至，gca昨天收盤.41美元，1.美元參與定向增發的機構投資者賺得盆滿缽滿。
gca一旦率先研製成功0nm製程工藝的光刻機，股價超過10美元都不是夢。
gca光刻機光源研究所如今有94人，超過鼎盛時期的人數，近七成是博士，人才濟濟，光刻機半導體研究院院長兼光源研究所所長古特雷斯院士還在全球範圍內高薪引進高端研發人才。
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