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第一一一八章 浸沒式光刻係統遇到難題(1 / 2)

800n製程工藝的專利技術對於gca來說如同雞肋,但對於bec如同神助,掌握後就能跨越1製程工藝,掌握800n製程工藝技術。

擁有了193n的ar準分子激光器的製造技術和800n製程工藝的專利技術,但bec還不能生產自主知識產權的1製程工藝的光刻機。

為了將來不被美國政府卡脖子,未雨綢繆,bec要掌握生產光刻機的三大核心技術:光源係統、光學係統和工作台係統,不斷升級換代。

叮囑鄧國輝,bec光刻機光源研究所研究清楚gar準分子激光器的工作原理和製造技術,光刻機光源公司自己生產;叮囑陳偉長,bec光刻機光學研究所自己研製成功6英寸晶圓和1製程工藝的光學鏡頭和反射鏡頭,光刻機光學公司自己生產。

孫健承諾,bec在2年內生產具有自主知識產權的6英寸晶圓和1製程工藝的光刻機,淘寶控股公司掏錢獎勵項目組200萬元;在4年內能生產一條具有自主知識產權的6英寸晶圓和1製程工藝的半導體生產線,他從淘寶控股公司持有的bec股份中,拿出200萬股獎勵給做出重大貢獻的科技和生產人員,但在規定時間內,完不成任務,就開始裁員!

獎勵和裁員雙管齊下,管理層、技術人員和普通員工的壓力劇增。

鄧國輝拿到ar準分子激光器專利技術,同錢富強仔細研究一番後,如醍醐灌頂,豁然開朗,申請2000萬元的研發經費,帶領光刻機光源研究所按照gca提供的技術圖紙,消化吸收ar準分子激光器的專利技術……

1995年2月,經過一年半的攻關,光刻機光源公司生產出一台6英寸晶圓和1製程工藝的光刻機。

1995年9月,bec生產了一條有自主知識產權的6英寸晶圓和1製程工藝的半導體生產線,填補了國內技術空白,打開了國內市場,終於拋掉三年巨虧的不利局麵,1995年度實現淨利潤11600萬元。

1996年4月20日,bec拿到公開發行新股的額度,6月11日,在鵬城證券交易所公開發行了15000萬股新股其中1000萬股職工股,每股發行價6元,融資873億元扣除發行費用,其中8億元用於研發8英寸晶圓和500n製程工藝光刻機,073億元用於補充公司流動資金。

當時bec研製的6英寸晶圓和800n製程工藝的光刻機已經臨近尾聲。

“鄧院長,研究院繼續研發8英寸晶圓和500n工藝的光刻機。”

“好的,董事長!”

“魏總,公司爭取早日生產出一條具有自主知識產權的6英寸晶圓和800n製程工藝的半導體生產線,到時,pgca率先訂購一條。”

“好的,董事長!”

“董事長,經過近2年的聯合攻關,研究證實,我們用去離子水等手段,保持水的潔淨度和溫度,使其不起氣泡,用去離子水作為曝光介質,雖然光源波長還是用原來的193n,但通過去離子水的折射,能使進入光阻的波長明顯縮小,使用浸沒式技術突破193n波長可行,我們如今遇到的最大難題是我們自己製造的光學鏡頭不能滿足突破193n波長光刻光學器件的技術要求。”



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