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第21章 科研課題分支(1 / 2)

從學霸到首席院士!

“極紫外光刻機?”

當萬滎看到自己眼前飄過去的文字時,本來還有些睡意的他,精神一下子就來了。

對於夏國來說,光刻機技術一直是自己的痛點。

夏國雖然在這個領域投入了相當大的人力物力,但由於國外的先發優勢,使得夏國的光刻機技術一直沒有能趕超到世界領先水平。

正因為如此,最近幾年不管是專家教授還是普通人,提起光刻機都是隻能默默的搖搖頭。

而對於世界芯片領域的關注度,也在夏國內逐漸火熱了起來。

更重要的是,相比於外骨骼裝甲,光刻機技術對於整個夏國來說才是更為迫切,也更為需要的。

畢竟在大多數領域,外骨骼裝甲還是無法進行應用,而光刻機所生產的芯片,卻深入了千家萬戶。

無論是手機、電視,還是電腦、汽車,甚至是一些玩具、手環、自動刷牙器,都全麵的普及了芯片。

所以芯片領域對於真個夏國來說,才是重中之重。

“一百條評論就直接把光刻機技術炸出拉了。”

萬滎自己都沒有想到,僅僅隻是一個100評論的抽獎,就抽出了如此重要點‘極紫外光刻機’技術。

要知道‘極紫外光刻機’技術在藍星可謂是最為先進的一種光刻機技術,相比於前代的‘深紫外光刻機’技術,它對芯片工藝的製造產生了革命性的影響。

相較於‘深紫外光刻機’duv,‘極紫外光刻機’euv在使用的光源上就有了重大的改變。

duv的光源為準分子激光,而euv這位是由激光激發等離子來發射euv光子。

這樣一來,euv的波長達到了驚人的135納米,遠遠超出了duv的193納米。

有了如此驚人的差距後,兩代光刻機所能作用的範圍也就顯而易見的不在一個時代了。

duv光刻機在製造7納米芯片的時候,成本已經飛速飆升,良品率也變得難以控製。

而euv則不同,由於其性能更加的優越。euv的工作範圍不僅能超越7納米,甚至能達到極限的1納米。

由於矽基芯片的限製,芯片在達到1納米之後,就會受到量子隧穿效應的影響,使得電子失控,從而最終讓芯片失效。

當然,藍星的芯片領域想要進軍到1納米,按照常理來講最少也還需要6年的時間。所以在這期間,極紫外光刻機技術依舊是藍星芯片領域的巔峰。

“還是全套?”

當萬滎的視野左上角出現了一個跳動的‘極紫外光刻機’幾個大字的時候,他也將注意力放到了上麵,從而得到了一段關於這個最新技術的注釋。

您獲得了‘極紫外光刻機’研究課題,您可以在本課題中選擇分支研究方向。

當選擇的分支完成後,可以進行下一個分支的研究。

在所有分支科技達成後,您將被附贈芯片製程全套工藝。

可選擇分支‘光學鏡頭’‘光學光源’‘雙工作台’‘矽片’



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