mta40光刻機是墨塔微電最新型號的光刻機，也是最先進的光刻機。
通過製程工藝技術的改進，可以直接實現35納米芯片的光刻。
對了，這是浸潤式duv光刻機。
duv光刻機的發展潛力上麵，還是相當巨大的，可以到10納米以下。
euv光刻機更加的厲害，可以實現3納米的光刻，甚至2納米乃至1納米。
墨塔微電在euv光刻機的研發上麵，已經進行了很多年時間，原型機剛剛是給組裝了起來，但是效果上麵，現在根本就比不上duv光刻機。
另外，墨塔微電的euv光刻機大量進口了不少國外的零部件。
如果進行量產的話，還不知道會出現什麼幺蛾子呢！
陳懷慶很清楚，太平洋對岸即將要上台的黑小夥，可不像是小什布這樣，覺得華國沒有什麼威脅。
隨著華國的實力越發強大，在這個世界上麵，自然會變得越發的顯眼，想要隱藏是隱藏不住的。
在浸潤式光刻機上麵，墨塔微電屬於走在全球前列。
墨塔微電在浸潤式光刻機技術上麵，和霓虹的光刻機企業進行了一部分的技術交換和合作。
至於說為什麼要如此？
很簡單的原因，為了對抗阿斯麥。
阿斯麥屬於北美和歐洲聯合起來進行扶持的光刻機企業，而將霓虹給排除在外了。
這一點，霓虹的光刻機企業自然看在眼裡。
之前的時候，霓虹的半導體產業可是被米國給打擊得不輕。
有共同的敵人，就能夠結成隊友。
所以墨塔微電和霓虹的光刻機企業進行一些技術上的合作，也屬於很正常的事情。
陳懷慶現在還真的希望說，保持一個現狀。
霓虹的光刻機企業頂在最前麵，墨塔微電可以安心的多發展上幾年。
當然了，合作起來打擊阿斯麥的發展，也是不錯的事情。
阿斯麥能夠發展起來，屬於在抓住了兩次光刻機的技術機會。
一次是浸潤式光刻機技術路線，這條技術路線要更加的簡單以及好走。
阿斯麥的浸潤式光刻機出來之後，就拿到了itel的訂單。
霓虹的光刻機企業之後也是很快拿出來了浸潤式光刻機，可是沒有訂單了。
然後，就此衰落。
阿斯麥成就霸主之位的，還是euv光刻機的研發成功。
自此之後，在光刻機領域，就沒有對手了。
euv光刻機研發難度相當的大，按照計劃，現在都應該進行交付了。
顯然，在之前的時候，阿斯麥有些過於的樂觀。
陳懷慶可是記得，得要十年後，euv光刻機才是大規模的應用。
“現在mta40有三台，正在進行一個製程工藝的開發。”
陳懷慶輕輕的點頭，墨塔半導體有豐富的芯片製造的工藝經驗。
但是，隨著芯片的製造精度越發高，上一代芯片的製造技術在下一代芯片上麵，有些就不適用了。
因為有新的困難出現，必須得要采用新的技術來克服。
墨塔半導體的發展，用不著陳懷慶操心，有張如京呢！
陳懷慶過來，就是看看，表示一番重視。
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