第510章無法跳躍的光刻機迭代
對於亮劍世界的民眾來說，這近幾年來東大的震驚實在給人太多了，讓人有些目不暇接，到現在都有些審美疲勞的感覺。
航空母艦的問世，其實也就喧囂了一天就重新歸於平靜。
畢竟比起把人送到太空中來說，這個航空母艦的問世對於普通人遠遠沒有那麼大的衝擊力。
甚至人們都刻意忽略了這個。
因為有沒有這個，大家早就清楚東大非常不好惹。
所以對於東大的第一艘航空母艦，也就是淺淺驚訝一下就完事了。
他們甚至都感覺不到東大民眾對這個航空母艦的激情。
當然，東大的航空母艦對於亮劍世界來說早就不是什麼秘密，畢竟一開始東大方麵就沒有躲藏著搞的意思，甚至還把約翰牛都拉進來貢獻了一把自己的技術。
所以這個進度什麼的，世界上各個主要大國其實心知肚明。
隻不過下水後，對於亮劍世界的諸國大人物們來說，東大的這個進度似乎有點快，3年多的時間就搞定一艘航空母艦，這效率簡直有些堪比二戰時期的流氓鷹了！
要知道這可不是那種商船改造的簡易護航航母，是真正的從頭設計的戰爭怪獸！
不過任重沒管這些，軍事方麵完成了最後一環的布局，這艘從頭到尾設計的新航母，等於是將任重辛辛苦苦從主世界搬運過來的航母資料差不多都用上了。
接下來的這個團隊也算是有了一個實操的過程，將一艘新時期全新的現代化航空母艦完全摸了一遍。
可以說除了艦載機和航電方麵還有些不可逾越的時代差異，在動力方麵，艦載機數量、甲板設計、彈射和攔阻等方麵來說，現在的燕都號航空母艦不輸給現代任何的航母了。
等於是為東大爭取了半個多世紀的時間提前進入到航母時代。
有了這個開始，未來的東大海軍再無瓶頸，從大黑魚、大驅、兩棲攻擊艦到航空母艦，一應俱全，從質量來說已經開始完全超出了現在的任何對手。
隻是在數量上沒有人多，但是在質量上隻會超越。
所以對於軍事方麵的發展，任重到了現在，總算是可以完全交給下屬的團隊他們自己去迭代了！
接下來他們的硬骨頭應該就是多普勒雷達到相控陣雷達的不斷努力，將航電進一步提升，然後在驅動方麵進一步優化迭代新型的燃機和核動力堆，以及超大型柴油機這樣的動力機械，把能量利用效率不斷提升到新的高度。
從技術演變的技術路線規劃上，任重這邊已經給了他們足夠多的資料。
所以，在深思熟慮之後，任重在清理了手中的多個技術發展路徑後，毅然決然地將他的戰略目光重新聚焦於電子工業這一至關重要的領域。
儘管當前光刻機技術已取得了突破性進展，邁入了全新的2微米時代，為286芯片的生產孕育了新的生產設備，但在任重那閱儘主世界科技發展史的深邃眼光中，這僅僅是電子工業蓬勃發展的萌芽階段。
286電腦，在漫長的計算機發展曆程中，不過是微不足道的一瞬。它標識著個人電腦從最初的萌芽走向初步的應用，但遠未達到技術的巔峰。目前東大方麵剛剛研發的光刻機，即便是最新型號，在任重的主世界視角看來，也不過是史前文物般的存在，那些古老的設備在主世界幾乎難以尋覓其蹤跡，隻能在塵封的曆史資料中偶爾一窺其貌。
真正引領電子工業步入現代化的光刻機，其發展曆程遠比想象中複雜而輝煌。
第一代現代化gine光刻機的誕生，這才真正標誌著半導體製造技術實現了曆史上的第一次飛躍。它們采用了gine光源，波長為436n，這一技術革新使得0.8至0.35微米製程的芯片生產成為可能。對應的設備就是第一代現代化接觸式和接近式光刻機，為486及以後新型cpu的製造開辟了新的天地。
在早期的cpu製造工藝中，1微米工藝最多就能支撐386級彆cpu的生產，而0.8微米製程的成熟，才標誌著486時代的到來。若要進一步跨越到586奔騰級彆的cpu，製程必須進化至0.35微米，這無疑是半導體製造領域的一次巨大挑戰。
然而，就當前亮劍世界中的東大cpu光刻機技術發展而言，它們還遠遠沒有觸及現代化光刻機的門檻。
2微米製程，在任重眼中，不過是史前時代的遺物。未來的道路，還有整整四代不同光源光刻機技術的難關等待攻克，每一步都充滿了未知與挑戰。
第二代光刻機，以iine為光源，波長縮短至365n，技術上的進步使得0.8至0.25微米製程的芯片生產得以實現。這一製程水平，在主世界中，對應著奔騰iiicpu的輝煌時代。奔騰iii，作為英特爾公司的一款經典產品，不僅在性能上實現了顯著提升，更在半導體製造工藝上樹立了新的標杆。
緊接著，第三代光刻機采用了krf光源，波長進一步縮短至248n，工藝節點提升至180至130n水平。這一技術革新，為第一代和第二代奔騰4的生產提供了有力支持。180n製程工藝的第一代奔騰4iaette，以及隨後一年采用130n製程工藝的第二代奔騰4處理器northood，都是這一技術進步的產物。它們不僅提升了cpu的性能，更推動了整個半導體製造業的發展。
而第四代光刻機，則是光刻技術發展曆程中的一個極為重要裡程碑。arfduv）光源的引入，使得波長縮短至193n，並通過技術創新將實際波長利用率提升至134n，這個技術就是著名的浸潤式光刻技術，它使arf光刻水平進一步提高：通過投影物鏡下方和晶圓間充滿水，由於水的折射率和玻璃接近在193n波長中，折射率空氣=1，水=1.44，玻璃約為1.5），從投影物鏡射出的光進入水介質後，折射角較小，光可以正常從物鏡中折射出來。arf光源加浸潤技術實際等效的波長為193n1.44=134n。
這一充滿天才構想的技術突破，使得130n後的廣泛現代化製程得以實現，最先進製程甚至可以提升至7n的水平當然在這樣極限製程下良品率遠遠比不過euv光刻機）。這一代光刻機，是目前主世界使用最廣泛、最具代表性的一代。從第三代奔騰4開始，絕大部分cpu、gpu和內存顆粒芯片的生產，都是由這一代光刻機完成的。在任重的主世界中，這也是目前東大方麵能掌握的最強製程技術。
然而，挑戰並未就此止步。第五代光刻機，以euv為光源，波長縮短至13.5n，使用的是極紫外光技術。這一技術革新，使得製程節點可以達到14n到3n水平，是當前市場上最為先進的產品之一。在主世界中，它被譽為最強的光刻機，廣泛應用於最新的cpu和gpu的生產中。這一技術的出現，不僅推動了半導體製造業的又一次飛躍，更為未來的科技發展奠定了堅實的基礎。
麵對如此艱巨的任務，任重深知，如果按部就班去突破，恐怕對於亮劍世界的東大來說有些走彎路了。