前世，nin費儘心機，在a研究成功193n浸沒式光刻機二年後，也研製成功157n激光器，攻克了193n波長的世界級難題，研製成功65n製程工藝光刻機，但光刻效果不如65n製程工藝的a浸沒式光刻機好，inte、台積電和三星等光刻機等三家全球最重要客戶不買賬，nin不得不另起爐灶，重新開始研發浸沒式光刻機，nin技術實力雄厚，竟然也研製成功，但一去一回，耽誤了三、四年的時間，高端光刻機市場被a占據了，隨著euv光刻機麵世，超高端光刻機市場也被a壟斷，日本舉國之力也沒有研製成功euv光刻機，nin喪失了同a競爭的資格，在中端光刻機市場混日子。
光刻機產業和晶圓製造產業都屬於勞動密集型和資金密集型產業，優勝劣汰，前世全球隻剩下3、4家！
be將來能否研製成功euv光刻機不是孫健操心的事情，儘力就夠了！
累死了，痛苦會留給家人！
重生者也不想當什麼英雄
a是否投巨資收購vg？得到其157n激光器需要配置的反折射鏡頭技術，早日開發成功157n激光器，ti作為戰略投資者，不乾涉a的日常經營活動。
全球數碼相機霸主ann看不上一年全球隻有500台左右光刻機的生意，沒有全心研發光刻機，但今年3月也研製成功180n製程工藝的光刻機，如今正在研製90n製程工藝的光刻機，技術水平排在全球第4位，在全球中低端光刻機市場占據5成的市場份額。
vg在今年5月也研發成功180n製程工藝的光刻機。技術水平在全球排第五位，在全球中低端光刻機市場占據2成。
be還在研發180n製程工藝的光刻機，借助於蓬勃發展的國內市場，占據全球中低端光刻機市場的3成，還擁有全球排名第一的磁懸浮式雙工作台係統技術，綜合實力同vg並列第五。製程工藝的光刻機比研發原子彈和衛星複雜的多，光刻機產業除了耗資巨大外，還需要技術積累和人才積累，這個時代的國內半導體產業鏈同美國和日本相比不是一個層次的競爭對手，be不可能花費10年時間就能趕上ga或nin，孫健從開始接手，就有清醒的認識，錢不是萬能的！沒有193n波長這道世界級的難題阻擋，be再花10年時間，也趕不上ga和nin
如今euv&nbp;聯盟同前世唯一不同的是，荷蘭光刻機公司a變成了美國光刻機公司ga。
前世，a為了進入euv&nbp;聯盟，不得不答應美國政府提出的苛刻條件，包括在美國境內建廠、建立研發中心，製造出來的euv光刻機中有55的零件必須由美企采購。
euv光刻機中至少有一半技術來自美國高科技公司，這是a永遠繞不過去的專利技術。
90n製程工藝的be光刻機不量產，be不會申請浸沒式光刻機技術的公司發明專利。
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